[아시아경제 진희정 기자]
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는 대표 지문 템플릿 새성 장치 및 방법에 대한 미국 특허를 취득했다고 13일 공시했다.
이 특허는 지문 인식 성능 향상을 위해 다수의 지문 템플릿으로 고품질의 대표 지문 템플릿을 생성하는 장치다.
회사는 "당사의 지문인식 응용 전제품에 적용할 예정으로 지문 인식 시스템의 성능 개선을 통해 그 활용도를 높일 계획"이라고 말했다.
진희정 기자 hj_jin@asiae.co.kr
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