[아시아경제 이정민 기자]
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는 공정가스의 흐름조정장치에 관한 특허를 취득했다고 1일 공시했다.
사측은 "본 특허는 발광다이오드(LED) 핵심 공정장비(MOCVD)에 적용되는 기술로 가스의 흐름을 가이드하는 가스가이드부의 위치를 가변시켜, 공정가스의 불균일한 흐름을 용이하게 컨트롤할 수 있어 수율 향상에 기여할 수 있다"고 설명했다.
이정민 기자 ljm1011@asiae.co.kr
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