에스앤에스텍, 산기평이 포토마스크 소재 개발 지원

에스앤에스텍은 한국산업기술평가관리원의 부품ㆍ소재기술개발사업(공동주관개발사업) 공동 지원대상자로 선정됐다고 5일 공시했다.

에스앤에스텍은 반도체용 포토마스크(Photomask) 소재 개발에 정부의 지원을 받게된다.

박선미 기자 psm82@asiae.co.kr