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올 대한민국 최고 신기술 '삼성전자'

최종수정 2008.12.22 11:34 기사입력 2008.12.22 08:49

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삼성전자의 세계 최초 초절전 50나노 공정 1기가바이트 DDR2 SD램이 올해 국내에서 개발된 최고의 기술로 뽑혔다.

지식경제부는 22일 서울 삼성동 그랜드 인터콘티넨탈 호텔에서 대한민국 산업기술대상 시상식을 열어 2008 대한민국 10대 신기술을 발표하고 이가운데 삼성전자에게 대상인 대통령상을 수여했다.

삼성전자는 올 상반기 이 반도체를 본격적으로 양산하기 시작하면서 D램 분야에서 50나노 시대를 세계 최초로 열었다. 회로 선폭의 두께를 50나노(머리카락 굵기 2000분의 1)로 줄이고 초절전 성능을 구현해 향후 세계 메모리 반도체 시장을 이끌어갈 제품으로 평가되고 있다.

국무총리상에는 ▲아토르바스타틴 신규 제법과 생산화 공정기술(종근당) ▲대규모 수처리용 PVDF(폴리비닐라이덴 플로라이드) 보강막 및 침지식 모듈(코오롱) ▲극지 운항 차세대 드릴십(삼성중공업)이 각각 선정됐다.

이밖에 서울반도체의 발광 다이오드 기술과 에스앤에스텍의 블랭크마스크 기술, 에스에프에이의 LCD용 글라스 스크라이빙 기술, 동진쎄미켐의 차폐 메쉬 온 글라스, 현대자동차의 아반떼 LPI 하이브리드 차량, 인피니트테크놀로지의 의료장비 촬영영상 디지털화 기술 등이 10대 신기술로 뽑혔다.

지경부 관계자는 "올해 10대 신기술로 선정된 제품의 매출액은 1조9000억원 규모이며 내년에는 5조2000억원에 이를 것"으로 추정했다.

한편 이날 행사에서는 허진규 일진전기 회장이 연구개발 및 산업협력에 기여한 공로로 금탑산업훈장을 받는 등 산업기술 진흥 유공자 25명에게 정부 훈·포장 및 대통령·국무총리·지경부 장관 표창이 돌아갔다.


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