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日 캐논, 차세대 노광장치 개발 적극 참여

최종수정 2007.11.22 10:04 기사입력 2007.11.22 10:03

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캐논이 반도체 생산용 차세대 노광장치 개발에 참여하기로 했다고 22일(현지시각) 니혼게이자이 신문이 보도했다.

노광장치는 광원을 이용해 원하는 부분에 미세 패턴을 형성시키는 과정으로 반도체 회로 공정에서 없어서는 안되는 핵심 장치다.

캐논의 참여로 니콘, ASML 대기업 3사의 경쟁이 본격화될 전망이다.

니콘은 차세대 제품의 생산을 30% 늘릴 예정이고 ASML도 보수 체제 강화에 나서고 있다.

소비자 입장에서는 정보 가전 제품이 더 작아지고 성능이 향상돼 사용이 편해질 듯하다.

캐논은 회로 선폭 40나노(나노는 10억분의1) 미터급의 차세대 반도체 전용 노광장치에 뒤처졌었다.

이번에 개발한 기종은 웨이퍼와 렌즈 사이에 아주 순수한 물로 막을 만드는 독자적인 방식을 채용한 것이다.

이 제품은 이달 안으로 반도체 기업에 출하를 시작해 노광장치 분야에서는 2010년까지 30% 점유를 목표로 하고 있다.

배수경 기자 sue6870@newsva.co.kr
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