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피에스케이, 기판 애싱방법에 관한 특허취득

최종수정 2007.04.17 17:48 기사입력 2007.04.17 17:48

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피에스케이는 17일 기판 애싱방법에 관한 특허를 취득했다고 공시했다.

회사측은 "반도체 제조 공정에 이온이 주입된 포토레지스트를 제거시키는데 있어 포토레지스트의 팝핑 현상이 발행하는 것을 방지하는 효과가 있다"며 "잔류물 발생을 막아 애싱 공정 중에 발생하는 이물 및 각종 오염물에 의한 불량을 대폭 감소시킬 수 있는 공정방법"이라고 설명했다.

구경민기자 kkm@akn.co.kr
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