SK하이닉스, 모바일 D램·소재 국산화 성과로 'SUPEX추구상' 받았다

'SUPEX추구상' 내 이노베이션상·시너지상 2개 부문

SK하이닉스는 서울 종로구 서린동 SK그룹 본사에서 여러 멤버사 구성원이 참석한 가운데 '수페스(SUPEX)추구상’ 시상식에서 자사 임직원이 이노베이션상과 시너지상을 받았다고 31일 밝혔다.

SUPEX추구상은 SK그룹에서 가장 권위 있는 상이다. 새로운 도전으로 혁신을 이룬 멤버사 구성원에게 수여된다. 그중 이노베이션상은 기술 혁신으로 그룹에서 귀감이 되는 도전과 성과를 이룬 사례를 바탕으로, 시너지상은 협업을 통해 성과를 이룬 사례를 토대로 수상 대상이 결정된다.

SK하이닉스는 자사 DRAM개발 부서에 있는 이상권 부사장과 권언오 부사장(펠로우), 홍윤석 팀장, 조성권 팀장과 미래기술연구원에 있는 손육익 팀장이 모바일용 D램인 '저전력더블데이터레이트(LPDDR)5' 개발 성과를 토대로 이노베이션상을 받았다고 밝혔다.

SK하이닉스는 지난해 11월 세계 처음으로 LPDDR에 하이-K 메탈 게이트(HKMG) 공정을 도입, 기존 LPDDR5보다 성능을 높인 LPDDR5X를 개발한 바 있다. 지난 1월에는 LPDDR5X 대비 동작 속도가 13% 빠른 LPDDR5T 개발에도 성공했다.

‘SUPEX추구상’ 시상식에서 이노베이션상을 받은 SK하이닉스 임직원이 최태원 SK그룹 회장(왼쪽에서 네 번째)과 기념사진을 촬영하고 있다. / [사진제공=SK하이닉스]

HKMG 공정은 유전율(K)이 높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전 용량(Capacitance)을 개선한 차세대 공정 기술이다. 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 것이 장점이다.

손윤익 팀장은 "LPDDR에 HKMG 공정을 접목하는 것은 새로운 기술을 개발한다는 것보단 패러다임을 바꾼다는 의미였기에 큰 도전이었다"며 "구성원의 자발적인 협업과 최고의 능력을 발휘하고자 하는 SUPEX 정신 덕분에 성과를 낼 수 있었다"고 말했다.

시너지상은 SK하이닉스, SK머티리얼즈 퍼포먼스 임직원이 공동으로 받았다. SK하이닉스에선 반도체 공정 핵심 소재인 극자외선 포토 레지스트(EUV PR) 국산화 공적으로 EUV소재기술 김재현 부사장(펠로우)과 FAB원자재구매 윤홍성 부사장, 미래기술연구원 길덕신 부사장(펠로우), 손민석 팀장이 수상했다.

SK하이닉스는 SK머티리얼즈 퍼포먼스와 협업해 EUV PR 국산화를 시도, 소재 수급 정상화를 이룬 바 있다. 91%에 달하던 소재 수입 의존도를 낮췄다. 김재현 부사장은 "이번 수상의 의미를 잊지 않고 협업을 지속해 제품 생산 단계에서 원가 경쟁력을 높이는 등 노력을 이어가겠다"고 말했다.

김평화 기자 peace@asiae.co.kr